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當前位置:首頁產品中心高溫熱處理爐ZYV-1200-V1真空氣氛立式熱處理爐

真空氣氛立式熱處理爐

產品簡介

ZYV-1200 系列高溫真空氣氛立式熱處理爐以專業(yè)立式結構設計,精準適配吊燒與淬火等垂直方向實驗需求。核心采用優(yōu)質電阻絲加熱元件,發(fā)熱效率穩(wěn)定,可實現(xiàn)均勻的立體加熱場:額定溫度達 1100℃,滿足常規(guī)高溫實驗持續(xù)運行;最高溫度可短時升至 1200℃(持續(xù)≤30min),靈活應對短時極限溫度場景。

更新時間:2026-01-23
訪問量:891
產品地址:安徽省合肥市高新區(qū)明珠大道198號
詳細介紹在線留言
品牌助研儀器升溫速度(達到最高溫)5-20℃/min
加熱方式優(yōu)質HRE加熱絲為加熱原件最大功率1.5kW
控溫精度±1℃最高溫度1200(≤30min)℃
價格區(qū)間面議儀器種類管式爐
產地類別國產應用領域環(huán)保,石油,能源,電子/電池
爐管尺寸Φ30/50*500mm,中間砂芯層:孔徑5-15微米工作電壓單相AC220V,50/60Hz

真空氣氛立式熱處理爐

ZYV-1200 系列高真空氣氛立式熱處理爐以專業(yè)立式結構設計,精準適配吊燒與淬火等垂直方向實驗需求。核心采用優(yōu)質電阻絲加熱元件,發(fā)熱效率穩(wěn)定,可實現(xiàn)均勻的立體加熱場:額定溫度達 1100℃,滿足常規(guī)高溫實驗持續(xù)運行;溫度可短時升至 1200℃(持續(xù)≤30min),靈活應對短時極限溫度場景。

控制方式:采用全自動控制系統(tǒng),從室溫到設定溫度設定程序后,可以自動運行。系統(tǒng)可控硅控制,控溫系統(tǒng)模塊化設計,結構簡單,維修方便。采用宇電儀表,可編程序30段,可自由設定恒溫與保溫曲線,無干擾切換功能,儀表具有溫度校正和補償功能。



使用注意事項

(1)爐管內氣壓不可高于0.02MPa

(2)由于氣瓶內部氣壓較高,所以向爐管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全

(3)對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)

(4)氣體的流量應限制在<200 SCCM(或200ml / min)

公司簡介

植根合肥科技圈,安徽助研儀器有限公司以技術創(chuàng)新驅動,專注科研設備制造。技術源自高校成果轉化,核心團隊深耕十余年,為設備保駕護航。

    聚焦科研需求,研發(fā)制造高溫爐、催化劑評價等系列設備,覆蓋科研院所、實驗室及工業(yè)場景,提供定制化解決方案,加速科研進程。

     以 “創(chuàng)新、品質、服務" 為核心競爭力,構建選型、安裝到售后的全周期服務,致力成科研信賴伙伴。

    盼與科研伙伴協(xié)同創(chuàng)新,共推設備升級、成果轉化,攜手發(fā)展。


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